氫氣發生器目前已大量應用在以上工藝中

 

　　1. 壓力、流量自動顯示，自動恒壓、恒流，氫氣流量可根據用量實現全自動調節。

 

　　2. 雙支不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），氫氣純度更高；儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低)，有效提高氣體質量，保證色譜基線平穩。

 

　　3. 提供高、低壓兩種工作模式，可靈活運用在不同狀態。

 

　　4. 配有安全裝置，靈敏可靠，自動防返堿。

 

　　氫氣發生器可以連續可靠的產生純度*的氫氣，純度>99.9999%。從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶*告別實驗室，整個過程只需去離子水和供電，即可產生氫氣，一次加水即可持續工作15天，成本低。氫氣發生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣根據需要適時適量產生，保持氫氣儲存體積和安全性。

 

　　氫氣也可以應用在化學氣相沉積（ChemicalVaporDepositon）薄膜生長。化學氣相沉積是一種利用固態-氣態反應、氣態-氣態反應生成薄膜的設備，如在CVD工藝中作為還原性氣體制備二維材料MOS2、WS2等；等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝中作為還原性氣體制備石墨烯、單晶硅、碳化硅等；電子回旋共振化學氣相沉積（ECR-CVD）中作為反應氣體在單晶硅襯底上制備金剛石薄膜；金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）設備中作為載氣制備光電材料GaN、AlGaN等。同時氫氣也可以在原子層沉積（AtomicLayerDeposition）中使用。氫氣發生器目前已大量應用在以上工藝中，為半導體材料及器件制備提供好的氣源。